近日，日本印刷株式会社（DNP）宣布，成功开发出电路线宽仅为10nm的纳米压印（NIL）光刻模板，可用于相当于1.4纳米等级的逻辑半导体电路图形化，可以满足智能...

据路透社报道，荷兰半导体设备制造商阿斯麦公司12月21日在社交媒体平台“X”（原推特）上表示，将向美国英特尔公司交付首批新型高数值孔径的极紫外光刻机。 阿斯麦公...